专利摘要显示，本发明公开了一种光学邻近效应修正方法，通过调整SRAF的宽度和厚度，改变其透光率，实现对晶圆线宽的影响，从而解决密集图形线条周期很小，空间不足，SRAF难以放置的问题，以及SRAF尺寸过小会发生劈裂的问题，优化光罩SRAF设计与晶圆线宽的协同关系，另外，由于插入窄曝光辅助图形在一张光罩上可以摆放更多图形，能减少光罩的拆分，有利于降低光罩成本。

　　天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2093次，专利信息2666条，此外企业还拥有行政许可397个。

　　声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

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